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    膜厚量測儀FE-300

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    FE-300

    "非接觸式"光學量測!
    薄膜到厚膜10nm ~ 1.5mm

    產品特色

    薄膜到厚膜的一量測範圍、UV~NIR光譜分析

    高性能的一低價光學薄膜量測儀

    藉由絕對反射率光譜分析膜厚

    完整繼承FE-3000高端機種90%的一強大功能

    無複雜設定,操作簡單,短時間內即可上    手

    線性最小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光係數)

    量測項目

    絕對反射率光譜解析

    多層膜解析(5層)

    光學常數解析(n:折射率、k:消光係數)

    規格樣式

    FE-300V FE-300UV FE-300NIR※1
    對應膜厚 標準型 薄膜型 厚膜型 超厚膜型
    樣品尺寸 最大8吋晶圓(厚度5mm)
    膜厚範圍 100nm ~ 40μm 10nm ~ 20μm 3μm ~ 300μm 15μm ~ 1.5mm
    波長範圍 450nm ~ 780nm 300nm ~ 800nm 900nm ~ 1600nm 1470nm ~ 1600nm
    膜厚精度 ±0.2nm以內※2
    重複再現性(2σ) ±0.1nm以內※3
    量測時間 0.1s ~ 10s以內
    量測口徑 約φ3mm
    光源 鹵素燈 UV用D2燈 鹵素燈 鹵素燈
    通訊界面 USB
    尺寸重量 280(W)× 570(D)×350(H)mm,約24kg
    軟體功能
    標準功能 波峰波谷解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乘法解析
    選配功能 材料→分析軟體、薄膜模型解析、標準片解析

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    ※2比對VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si),範圍值同保證書所記載

    ※3量測VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si)同一點位時之重複再現性 。(擴充係數2.1)

    量測範例

    PET基板上    的一DLC膜

    PET基板上    的一DLC膜

    Si基板上    的一SiNx

    Si基板上    的一SiNx

    應用範圍

    半導體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)

    光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)